一、专利申请流程

（一）发明专利申请流程

申请文件：完整文件（说明书、专利范围、摘要和图样）、申请人/发明人完整名字和住址。

优先权：首案申请日起1年内。申请时一并要求主张，并于专利局规定期限内提供证明文件及其英文译本。

申请时间：约2-4年。

审查方式： 审查制。

公开/公告：自申请日起18个月后进行公开。

保护年限：自申请日/优先权日起算20年。

年费：自申请日第五年起每年缴纳。

流程图：

备注：

1.核准后注册公告，专用期限内第三方可提出撤销请求。
  2.如提报同案在美、日、澳、韩或欧盟同案核准资料，可请求搜寻报告及实审。

（二）小专利申请流程

申请文件：申请人/发明人完整名字和住址、图样或照片、新颖性说明。

优先权：申请时一并要求主张，如注册处要求则需提交证明文件及其英文译本。

申请时间：约2-3个月。

审查方式：注册制。

公开/公告：核准后注册公告，专用期限内第三方可提出撤销请求。

保护年限：自申请日/优先权日起算15年。

年费：每5年需延展一次。

流程图：

（三）外观设计申请流程

申请文件：完整文件（请求书、图样或照片，如必要需附简要说明）、申请人/发明人完整名字和住址、经公证之委任状、申请权证明、早于新加坡申请日生效之申请权转让书。

优先权：首案申请日起6个月内。申请时一并要求主张，并于申请专利文件公开前提交证明文件及其英文译本。

申请时间：约2-3年。

审查方式：形式审查制。

公开/公告：申请案通过形式审查后公告，90天内开放他人异议，期间内无异议提出则自动进行实审。

保护年限：自申请日/优先权日起算10年。

年费：申请日起第5年开始每年缴纳。

外观设计申请流程图：